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关于召开 -“ic设计与优化技术研讨会”-的通知


丨中国·西安 丨

2019.5.27(13:00-16:30)


主办单位:

国家集成电路设计西安产业化基地

北京华大九天软件有限公司


诚挚邀请:
为适应集成电路高性能ic设计及优化趋势,发展高效的电路仿真及性能良率提升技术,加强同行间的相互学习和交流,了解国内外集成电路ic设计及高性能优化技术的进展,国家集成电路设计西安产业化基地(简称:西安icc)与国产eda软件供应商-华大九天联合举办“ic设计与优化技术研讨会”,欢迎西安微电子行业企业、各高等院校相关专业教师、研究所的同仁们光临,共同探讨ic设计及优化新技术和新方法。


会议时间:

2019年5月27日(星期一) 13:00-16:30

会议地址:

西安市高新区科技二路77号西安光电园2层北(西安icc会议室)


会议议程:
13:00-13:30    入场签到
13:30-13:45    西安icc基地介绍
13:45-14:00    华大九天业务总览
14:40-15:00    高效的模拟/数模混合全流程设计方案
15:00-15:10    茶歇与交流
15:10-16:10    yield-ppa driven soc特色k66凯时的解决方案
16:10-16:30    幸运抽奖与会后交流


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