据北方华创官微消息，近日，由北方华创自主研发的12英寸高密度等离子体化学气相沉积（hdpcvd）设备orion proxima正式进入客户端验证。这标志着北方华创在绝缘介质填充工艺技术上实现了新的突破，也为北方华创进军12英寸介质薄膜设备领域，打开百亿级市场迈出了坚实的一步。
（图源：北方华创）
据了解，orion proxima作为北方华创推出的国产自研高密度等离子体化学气相沉积设备，主要应用于12英寸集成电路芯片的浅沟槽绝缘介质填充工艺，通过沉积-刻蚀-沉积的工艺方式可以有效完成对高深宽比沟槽间隔的绝缘介质填充。现阶段，orion proxima技术性能在迭代升级中已达业界先进水平。
